Reuters’ın aktardığına göre Çin, Shenzhen’de yüksek güvenlikli bir tesiste EUV litografi prototipini 2025’in başında çalışır hâle getirdi. Makine neredeyse tüm fabrika katını kaplıyor. Projede, ASML’de çalışmış mühendislerin tersine mühendislik yoluyla EUV sistemlerinin bazı unsurlarını yeniden kurduğu; sistemin 13,5 nm dalga boyunda EUV ışığı üretebildiği ancak henüz çip basamadığı belirtiliyor. Bu girişim, Pekin’in yarı iletkenlerde dışa…